Substrato cerâmico de nitreto de alumínio polido ALN

Substrato cerâmico de nitreto de alumínio polido ALN

GRWAY® é um fabricante e fornecedor deSubstrato cerâmico de nitreto de alumínio polido ALN.A cerâmica de nitreto de alumínio (AlN) tem alta condutividade térmica (5-10 vezes maior que a cerâmica de alumina), baixa constante dielétrica e fator de dissipação, bom isolamento e excelentes propriedades mecânicas, não tóxico, alta resistência térmica, resistência química e o o coeficiente de expansão linear é semelhante ao Si, que é amplamente utilizado em componentes de comunicação, LED de alta potência, dispositivos eletrônicos de potência e outros campos.Produtos com especificações especiais podem ser produzidos mediante solicitação.

DESEMPENHO do substrato cerâmico de nitreto de alumínio ALN

 - Alta condutividade térmica, alta resistência à flexão, alta temperatura

 - Bom isolamento elétrico

 - Baixa constante dielétrica e perda

 - Capaz de ser perfurado a laser, metalizado, chapeado e soldado

Dimensões regulares do substrato/wafer de AlN

PS: Outras dimensões que não estão listadas estão disponíveis mediante solicitação.

Características do substrato cerâmico de nitreto de alumínio (ALN)

1. Microestrutura uniforme

2.Alta condutividade térmica* (70-180 Wm-1K-1), adaptada através de condições de processamento e aditivos

3. Alta resistividade elétrica

4. Coeficiente de expansão térmica próximo ao do silício

5.Resistência à corrosão e erosão

6.Excelente resistência ao choque térmico

7.Quimicamente estável até 980°C em atmosferas de H2 e CO2, e no ar até 1380°C (a oxidação da superfície ocorre em torno de 780°C; a camada superficial protege o volume até 1380°C).