Substrato Cerâmico de Nitreto de Alumínio Polido (ALN)

Substrato Cerâmico de Nitreto de Alumínio Polido (ALN)

GRWAYSubstrato Cerâmico de Nitreto de Alumínio Polido (ALN).A cerâmica de nitreto de alumínio (AlN) tem alta condutividade térmica (5-10 vezes como a cerâmica de alumina), baixa constante dielétrica e fator de dissipação, bom isolamento e excelentes propriedades mecânicas, não tóxica, alta resistência térmica, resistência química e o coeficiente de expansão linear é semelhante com Si, que é amplamente utilizado em componentes de comunicação, led de alta potência, dispositivos eletrônicos de potência e outros campos.Produtos com especificações especiais podem ser produzidos mediante solicitação.

Nitreto de Alumínio (ALN) Substrato Cerâmico DESEMPENHO

Dimensões regulares do substrato AlN/wafer

PS: Outras dimensões que não estão listadas estão disponíveis mediante solicitação.

Características do substrato cerâmico de nitreto de alumínio (ALN)

1.Microestrutura uniforme

2. Alta condutividade térmica* (70-180 Wm-1K-1), adaptada por meio de condições de processamento e aditivos

3. Alta resistividade elétrica

4. Coeficiente de expansão térmica próximo ao do Silício

5. Resistência à corrosão e erosão

6.Excelente resistência ao choque térmico

7. Quimicamente estável até 980°C em atmosferas de H2 e CO2, e no ar até 1380°C (a oxidação da superfície ocorre em torno de 780°C; a camada superficial protege o volume até 1380°C).