Princípio de trabalho do substrato de nitreto de silício

O princípio de trabalho desubstrato de nitreto de silíciobaseia-se principalmente em suas propriedades físicas e químicas únicas, que permitem desempenhar um papel fundamental em uma variedade de campos de alta tecnologia.

O nitreto de silício (SI3N4) é uma substância inorgânica com alta condutividade térmica, alta resistência mecânica, boa estabilidade química e resistência ao choque térmico. Essas características tornam os substratos de nitreto de silício amplamente utilizados em dispositivos eletrônicos de energia, peças de engenharia de alta temperatura, materiais refratários avançados na indústria metalúrgica e na indústria química.

Em dispositivos eletrônicos de energia, o princípio de trabalho dos substratos de nitreto de silício é refletido principalmente em sua dissipação de calor e suporte mecânico. Como os dispositivos semicondutores geram muito calor durante a operação e os substratos de nitreto de silício têm excelente condutividade térmica alta, eles podem efetivamente exportar calor do dispositivo para garantir a operação normal do dispositivo. Ao mesmo tempo, a alta resistência mecânica dos substratos de nitreto de silício também permite suportar grande tensão mecânica e fornecer suporte estável ao dispositivo.

Além disso, os substratos de nitreto de silício também têm boa estabilidade química e resistência ao choque térmico e podem manter o desempenho estável em ambientes de trabalho severos. Essas características permitem que os substratos de nitreto de silício trabalhem normalmente em condições extremas, como alta temperatura, alta pressão e forte corrosão, ampliando ainda mais suas áreas de aplicação.

Em resumo, o princípio de trabalho dos substratos de nitreto de silício é baseado principalmente em sua alta condutividade térmica, alta resistência mecânica, boa estabilidade química e resistência ao choque térmico, o que os faz desempenhar um papel insubstituível em uma variedade de campos de alta tecnologia.