A introdução do substrato cerâmico de nitreto de alumínio polido ALN

A substrato cerâmico de nitreto de alumínio polido (AlN)é um tipo especializado de substrato de AlN que foi submetido a um processo de polimento para obter uma superfície lisa e plana. Este processo de polimento normalmente envolve lixar e polir a superfície da cerâmica AlN até um alto grau de suavidade e planicidade. O substrato resultante é frequentemente usado em aplicações eletrônicas e optoeletrônicas onde um acabamento superficial de alta qualidade é essencial. Aqui estão alguns pontos-chave sobre substratos cerâmicos de AlN polidos: Superfície Lisa: O processo de polimento remove irregularidades, rugosidades e imperfeições da superfície, resultando em uma superfície lisa e uniforme. Isto é crucial para aplicações onde a qualidade da superfície do substrato afeta o desempenho do dispositivo. Planicidade: Substratos de AlN polidos são normalmente caracterizados por um alto grau de planicidade. Essa planicidade é importante para garantir uniformidade no crescimento das camadas epitaxiais e no desempenho dos dispositivos construídos no substrato. Condutividade Térmica: A condutividade térmica do AlN continua sendo uma propriedade valiosa em substratos polidos, tornando-os adequados para aplicações que exigem dissipação de calor eficiente. Isolamento Elétrico: Assim como os substratos de AlN não polidos, as versões polidas mantêm as propriedades de isolamento elétrico do AlN, tornando-as adequadas para aplicações eletrônicas e de semicondutores. Uso de dispositivos semicondutores: Substratos de AlN polidos são frequentemente usados ​​como base para o crescimento de camadas epitaxiais de outros materiais semicondutores, como nitreto de gálio (GaN). A superfície lisa e plana ajuda a obter crescimento epitaxial de alta qualidade e desempenho do dispositivo. Aplicações optoeletrônicas: Além de dispositivos semicondutores, substratos de AlN polidos são usados ​​em aplicações optoeletrônicas, incluindo a fabricação de diodos emissores de luz (LEDs), diodos laser e fotodetectores. Substratos cerâmicos de AlN polidos são valiosos em aplicações onde a qualidade da superfície, planicidade e gerenciamento térmico são críticos. Eles ajudam a melhorar o desempenho e a confiabilidade de dispositivos eletrônicos e optoeletrônicos, especialmente em aplicações de alta potência e alta frequência. O grau de polimento e os requisitos específicos para o acabamento superficial do substrato podem variar dependendo da aplicação pretendida e das capacidades do fabricante.